全国氢气储罐设备厂家，全国氢气储罐生产厂家，全国氢气储罐制造厂家以满足电子工业厂房的使用功能为目标，确保对各类系统监控信息资源的共享和优化管理，需要建立实用、可靠和高效的自动化应用系统，以实施综合管理功能。

4.1.4 监控画面应以图形和动画等直观形象呈现工业现场信息，方便对流程的控制和监视。采用的组态软件应能够将工程运行的状况、实时数据、历史数据、警告和故障信息形成报表，供运行和管理人员使用，用于今后的系统运行分析。

据工艺要求，应对洁净室（区）的空气参数进行监视、测量和记录。

4.2.2 洁净室（区）的监控系统与净化空调的监控系统宜合用，全国氢气储罐设备厂家，全国氢气储罐生产厂家，全国氢气储罐制造厂家或采用通信的方式进行数据共享。

4.2.3 多个洁净室（区）采用一套监控系统时，应根据严格的洁净室（区）的温度和湿度要求选择控制系统的精度。

4.2.4 洁净室（区）内外的压差检测，宜采用压差变送器监测。

4.2.5 洁净室（区）安装有过滤器时，宜具有过滤器压差报警功能。

4.2.6 传感器宜对化学物质沉积采取防护措施或具备自洁功能。

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4.2.1 对温度、湿度、露点温度、压差、洁净度、空气成分等全部或部分空气参数进行监视、测量和记录，并及时报警，维持洁净环境，满足工艺生产的要求。

    对于生产新型显示器件及半导体器件的洁净室环境，悬浮分子污染物（Airborne Molecular Contaminants，AMC）的控制越来越重要。国际半导体设备与材料协会（Semiconductor E and Materials International，SEMI）的标准根据化学品的特性，将洁净室中的空气污染物分为酸（Molecular Acids，MA）、碱（Molecular bases，MB）、可凝聚物（Molecular Condensables，MC）和掺杂物（Molecular Dopants，MD）。

4.2.2 系统合用便于统一管理，保证数据传输的可靠、及时；如分开设置，全国氢气储罐设备厂家，全国氢气储罐生产厂家，全国氢气储罐制造厂家需采取措施保证不同监控系统间数据通信的可靠、及时。

4.2.3 在同一栋生产厂房内，工艺段对洁净环境的温度、湿度、压力要求不同，但控制系统共用时，控制系统的选择应满足严格的要求。

4.2.6 个别生产工艺段有化学沉积现象，化学物质沉积在敏感元件处时会影响测量精度，严重的会使传感器失去功能，要采取适当的防护措施。

4.1.7 自动化控制系统的主机宜进行冗余化设计设有热备份，当系统的主用主机出现故障时，备份主机能及时投入运行，以提高系统的安全性、可靠性。

4.1.9 能在强噪声、射频干扰和振动、电磁干扰等的环境中连续无故障地运行，所有探测器、传感器、变送器、阀门及执行机构等设备应具有较高的可靠性、可用性、稳定性、全国氢气储罐设备厂家，全国氢气储罐生产厂家，全国氢气储罐制造厂家可操作性。