工厂气站指导安装，工厂气站技术指导，工厂气站技术咨询根据工艺要求，应对洁净室（区）的空气参数进行监视、测量和记录。

4.2.2 洁净室（区）的监控系统与净化空调的监控系统宜合用，或采用通信的方式进行数据共享。

4.2.3 多个洁净室（区）采用一套监控系统时，应根据严格的洁净室（区）的温度和湿度要求选择控制系统的精度。

4.2.4 洁净室（区）内外的压差检测，宜采用压差变送器监测。

4.2.5 洁净室（区）安装有过滤器时，宜具有过滤器压差报警功能。

4.2.6 传感器宜对化学物质沉积采取防护措施或具备自洁功能。

1 供暖、通风与空气调节系统监控应对供暖、通风、工厂气站指导安装，工厂气站技术指导，工厂气站技术咨询空调系统的运行工况进行监视、控制、测量和记录。

4.3.2 净化空调与一般空调的控制系统宜分开设置。

4.3.3 供暖、通风与空气调节系统监控应对送排风机及新风空调机组的运行状态、故障报警、启停控制、手自动切换进行监控。

4.3.4 洁净室（区）的送风、回风和排风系统的启停宜连锁。当连锁控制时，宜采用措施对各部分的运行状态进行确认；当各部分的运行状态不满足要求时，应报警。

4.3.5 净化空调系统的风机宜采用变频控制，变频器的数据宜通过通信的方式获得。

4.3.6 冬季存在结冻可能的新风机组、工厂气站指导安装，工厂气站技术指导，工厂气站技术咨询空调机组应设置防冻保护措施。

4.3.7 腐蚀及爆炸危险气体的排风系统，其仪表设备及执行机构的选择应满足防腐蚀和防爆的要求。

4.3.8 新风空调控制系统宜监测室外的空气参数。

4.2.1 对温度、湿度、露点温度、压差、洁净度、空气成分等全部或部分空气参数进行监视、测量和记录，并及时报警，维持洁净环境，满足工艺生产的要求。

    对于生产新型显示器件及半导体器件的洁净室环境，悬浮分子污染物（Airborne Molecular Contaminants，AMC）的控制越来越重要。工厂气站指导安装，工厂气站技术指导，工厂气站技术咨询国际半导体设备与材料协会（Semiconductor E and Materials International，SEMI）的标准根据化学品的特性，将洁净室中的空气污染物分为酸（Molecular Acids，MA）、碱（Molecular bases，MB）、可凝聚物（Molecular Condensables，MC）和掺杂物（Molecular Dopants，MD）。

4.2.2 系统合用便于管理，保证数据传输的可靠、及时；如分开设置，需采取措施保证不同监控系统间数据通信的可靠、及时。

4.2.3 在同一栋生产厂房内，工艺段对洁净环境的温度、湿度、压力要求不同，但控制系统共用时，控制系统的选择应满足严格的要求。

4.2.6 个别生产工艺段有化学沉积现象，化学物质沉积在敏感元件处时会影响测量精度，严重的会使传感器失去功能，工厂气站指导安装，工厂气站技术指导，工厂气站技术咨询要采取适当的防护措施。